光刻胶是一种广泛应用于半导体、微电子和显示面板制造的关键材料。然而，光刻胶生产过程中会产生大量含有有机溶剂、重金属离子和高浓度污染物的废水。这些废水若未经妥善处理直接排放，会对环境造成严重污染。因此，开发高效、经济的光刻胶生产废水处理与回用工艺具有重要意义。

光刻胶生产废水通常具有以下特点：

- 高COD（化学需氧量）：废水中含有大量的有机溶剂，如丙烯酸酯类、苯类化合物等。

- 高毒性：可能含有重金属离子（如铬、镍等）和其他有毒物质。

- 复杂成分：包含多种有机物、无机盐和添加剂，成分复杂。

- 波动性强：废水水质和水量随生产工艺变化较大。

光刻胶生产废水处理与回用工艺流程

针对光刻胶生产废水的特点，采用“预处理 + 深度处理 + 回用”的综合工艺可以有效实现废水达标排放或资源化利用。

（1）预处理阶段

预处理的主要目的是去除废水中的悬浮物、大颗粒杂质以及部分有机污染物。

- 混凝沉淀：顺利获得加入混凝剂（如聚合氯化铝、聚丙烯酰胺）使悬浮物和部分有机物形成絮凝体，沉淀分离。

- 气浮分离：利用微小气泡将轻质有机物带至水面，进一步去除悬浮物。

- 酸碱调节：调整废水pH值，为后续处理创造适宜条件。

（2）深度处理阶段

深度处理用于进一步降解难降解有机物和去除重金属离子。

- 高级氧化技术（AOPs）：

 - 常见方法包括Fenton氧化、臭氧氧化和紫外催化氧化等。

 - 这些技术能够产生强氧化性的羟基自由基（·OH），分解废水中的有机污染物。

- 生物处理：

 - 对于可生化性较好的废水，采用厌氧-好氧生物处理工艺（如UASB+MBR）可以有效降解有机物。

- 膜分离技术：

 - 超滤（UF）、纳滤（NF）和反渗透（RO）技术可用于去除溶解性有机物和微量重金属离子。

（3）回用阶段

经过深度处理后的废水可以达到工业用水标准，用于清洗、冷却或其他非关键工艺环节。

- 活性炭吸附：进一步去除残留的微量有机物。

- 消毒处理：顺利获得紫外线或次氯酸钠对废水进行消毒，确保水质安全。

- 监测与调控：定期检测回用水的水质指标，确保其符合使用要求。

光刻胶生产废水处理与回用是一项复杂的系统工程，需要结合具体废水特性选择合适的工艺组合。顺利获得科研设计和精细化管理，不仅可以解决环境污染问题，还能实现资源的有效利用，有助于光刻胶行业的可持续开展。